井式光亮退火爐回火時(shí)間間隔不得超過(guò)4小時(shí)，復(fù)雜零件和高合金鋼零件不得超過(guò)1小時(shí)。大型零件和高合金鋼零件應(yīng)在淬火后立即回火，并送至熔爐，否則會(huì)開(kāi)裂。根據(jù)工藝確定回火溫度。在確定溫度時(shí)，應(yīng)考慮爐溫的均勻性、儀表指示值的誤差、裝爐量、井式光亮退火爐的爐氣循環(huán)，并適當(dāng)調(diào)整溫度范圍，以保證工件回火后硬度達(dá)到圖紙要求。
當(dāng)生產(chǎn)批量較大時(shí)，先試著對(duì)少量工件進(jìn)行回火，檢驗(yàn)合格后再按原工藝分批回火。在光亮退火爐和硝酸爐中回火時(shí)，可在出鋼前15 ~ 30分鐘取出一片，以確定是否有必要延長(zhǎng)保溫時(shí)間，即利用時(shí)間長(zhǎng)度保證回火后的硬度�！毒焦饬镣嘶馉t安全操作規(guī)程》對(duì)于需要進(jìn)行深冷處理的鋼件，深冷處理前不應(yīng)進(jìn)行低溫回火，以免殘余奧氏體熱穩(wěn)定。
熱源是線性光源(燈管)的雙面加熱形式，利用紅外輻射加熱原理直接加熱硅片。多點(diǎn)側(cè)降技術(shù)，熱源采用點(diǎn)光源(燈泡)和單面加熱形式。球形燈泡發(fā)出的光通過(guò)高透過(guò)率的應(yīng)時(shí)窗進(jìn)入反應(yīng)室，對(duì)硅片支撐放環(huán)上的硅片進(jìn)行加熱。溫度信號(hào)檢測(cè)側(cè)由多個(gè)響應(yīng)時(shí)間非�？斓募t外探頭實(shí)時(shí)檢測(cè)，產(chǎn)品在加熱過(guò)程中高速旋轉(zhuǎn)，使得晶片表面與反應(yīng)氣體的接觸概率幾乎相同。
使用氣體燃料時(shí)，通常有多個(gè)小能量的燃燒器，它們沿爐膛內(nèi)壁的切線方向安裝，在高度上均勻分層或螺旋排列，以避免火焰直接沖刷工件，保證爐膛內(nèi)溫度均勻。當(dāng)用于低溫回火或使用油作為燃料時(shí)，在爐膛中建立一個(gè)薄的馬弗爐壁以將燃燒空間與加熱空間分開(kāi)，但是帶有馬弗爐壁的井式爐消耗大量燃料。
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